Electrochromism in oxyfluoride thin films

A. Azens, A. Gutarra, B. A. Stjerna, Claes G. Granqvist, J. Gabrusenoks, Andrejs R. Lusis

Producción científica: Capítulo del libro/informe/acta de congresoArticulo (Contribución a conferencia)revisión exhaustiva

3 Citas (Scopus)

Resumen

Oxyfluoride films based on W and Ti were prepared by reactive sputtering in plasmas containing O2 + CF4. The deposition rate was large, particularly when chemical sputtering was promoted by heating the target. The films could show large charge insertion/extraction, high coloration efficiency, and good cycling durability.

Idioma originalInglés
Título de la publicación alojadaProceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering
EditorialSociety of Photo-Optical Instrumentation Engineers
Páginas435-442
Número de páginas8
ISBN (versión impresa)0819415642
EstadoPublicada - 1 dic. 1994
EventoOptical Materials Technology for Energy Efficiency and Solar Energy Conversion XIII - Freiburg, Ger
Duración: 18 abr. 199422 abr. 1994

Serie de la publicación

NombreProceedings of SPIE - The International Society for Optical Engineering
Volumen2255
ISSN (versión impresa)0277-786X

Conferencia

ConferenciaOptical Materials Technology for Energy Efficiency and Solar Energy Conversion XIII
CiudadFreiburg, Ger
Período18/04/9422/04/94

Huella

Profundice en los temas de investigación de 'Electrochromism in oxyfluoride thin films'. En conjunto forman una huella única.

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